Optimization of the silicon oxide layer thicknesses inserted in the Mo/Si multilayer interfaces for high heat stability and high reflectivity

高い耐熱性と高い反射率両立のための、Mi/Si多層膜界面に挿入したシリコン酸化物層厚の最適化

Mo/Si多層膜界面にSiO $_{2}$ 層を挿入することにより、Mo/Si多層膜の耐熱性は大きく向上するが、Mo/Si多層膜が高い反射率を示す波長13nm近傍の軟X線領域では、酸素によるX線の吸収が大きいため、SiO $_{2}$ 層を挿入したMo/Si多層膜の軟X線反射率は減少する。そこで、高い耐熱性をもつMo/SiO $_{2}$ /Si/SiO $_{2}$ 多層膜に対して、軟X線反射率の向上を目的にSiO $_{2}$ 層厚の最適化を行った。600 $^{circ}C$ までの熱処理に対する構造評価と、軟X線反射率測定の結果、Si-on-Mo界面に0.5nm,Mo-on-Si界面に1.5nmずつのSiO $_{2}$ 層を挿入したMo(4.0)/SiO $_{2}$ (0.5)/Si(4.0)/SiO $_{2}$ (1.5)多層膜が高い耐熱性と軟X線反射率とを実現することを見いだした。この多層膜は400 $^{circ}C$ における熱処理後も熱処理前と同様の高い軟X線反射率を示し、500 $^{circ}C$ までの熱処理に対して安定な構造を有する。この温度は従来のMo/Si多層膜に比べ、約200 $^{circ}C$ と高い。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Journal of Applied Physics
巻	:	92
号	:	9
ページ数	:	p.4952 - 4958
発行年月	:	2002/11
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
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キーワード	:	Mo/Si多層膜; SiO $_{2}$ 層厚; 耐熱性; 軟X線反射率

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論文URL	:	https://doi.org/10.1063/1.1510566
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InCites™	:	パーセンタイル：28.33 分野：Physics, Applied
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登録番号 : A20020226
抄録集掲載番号 : 310056
論文投稿番号 : 19720

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