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Preparation of TiN thin films by dynamic mixing method using N$$^{+2}$$ ion beam of 1 KeV

1keV N$$^{+2}$$イオンのダイナミックミキシング法によるTiN膜の作成

鷹野 一郎*; 磯部 昭二*; 佐々木 貞吉; 馬場 祐治  

not registered; not registered; Sasaki, Teikichi; Baba, Yuji

ダイナミックミキシング法により窒化チタン膜を作成し、最適条件下で得た試料の化学組成をXPSにより求めた。SUS基板を500$$^{circ}$$Cに保ち、チタン蒸気中、1keV N$$^{+2}$$イオンにより照射した。約1000秒の照射後、試料表面はTiN特有の黄金色を呈した。このときの硬度はCVD-TiNのそれとほぼ等しく、また化学組成はN/Ti=1であった。なお室温で作成した薄膜はN/Ti=1になるものの、マイクロボイド含有のため硬度は前記試料のそれの1/2となった。

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パーセンタイル:51.19

分野:Materials Science, Multidisciplinary

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