Radiation annealing in nickel and copper by 100 MeV iodine ions

ニッケル及び銅における100MeVヨー素イオンによる照射アニーリング

Iwase, Akihiro; Iwata, Tadao; Sasaki, Shigemi; Nihira, Takeshi*

あらかじめ簡単な欠陥をドープしたNi、Cuにおける100MeV Iイオンによる照射アニーリングについて、10k以下での損傷生成率の測定により調べた。実験結果は複数の種類の欠陥の生成・消滅を記述した新しいモデルを用いて解析した。その結果NiにおいてはステージIの熱アニーリングに相当する欠陥の消滅が照射中に起こり、その消滅断面積は6.510 $^{-12}$ ~1.410 $^{-12}$ cm $^{2}$ であった。一方Cuにおいては、ステージIアニーリングに相当する欠陥の照射中における消滅断面積は4.610 $^{-13}$ cm $^{2}$ であった。Cuに比べてNiにおける照射アニーリングが大きく現われるのは、原子格子相互作用を通じて、イオンによって励起された電子のエネルギーが格子系に伝わり、照射アニーリングに寄与したものである、と結論した。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Journal of the Physical Society of Japan
巻	:	59
号	:	4
ページ数	:	p.1451 - 1457
発行年月	:	1990/04
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	Radiation Annealing; Nickel; Copper; Electronic Excitation; Electron-phonon Interaction

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.1143/JPSJ.59.1451
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：67.54 分野：Physics, Multidisciplinary
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登録番号 : A19890454
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 9813

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