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Measurements of neutral beam stopping for hydrogen and helium in JT-60 plasma

JT-60プラズマ中における水素及びヘリウム中性粒子ビームのストッピングの測定

飛田 健次; 伊藤 孝雄; 逆井 章; 草間 義紀; 小原 祥裕; 塚原 美光; 根本 正博; 河野 康則; 久保 博孝; 竹内 浩; 杉江 達夫

Tobita, Kenji; Ito, Takao; Sakasai, Akira; Kusama, Yoshinori; Ohara, Yoshihiro; Tsukahara, Yoshimitsu; Nemoto, Masahiro; Kawano, Yasunori; Kubo, Hirotaka; Takeuchi, Hiroshi; Sugie, Tatsuo

水素及びヘリウムビームのシャインスルーを測定した。測定に用いられた水素ビームは、フルエネルギー140keV、ビーム成分比7%(140keV):32%(70keV):61%(47keV)であり、3$$times$$$$^{13}$$cm$$^{-3}$$以上の電子密度を持つプラズマに対するシャインスルーは、H(IS)の断面積から計算した値より小さかった。電子密度(3.1-5.0)$$times$$10$$^{13}$$cm$$^{-3}$$、実効電荷数1.6-2.5のとき、ストッピング断面積を20%増加させると、シャインスルーの測定値を説明できた。この結果は、水素ビームのストッピング過程に多重励起を考慮すべきであることを示す。測定から求めた多重励起による断面積の増分は、Janevらが計算から求めた値と矛盾しない。また、160~190keVのヘリウムビームのストッピングには、多重励起の影響が見られなかった。

no abstracts in English

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分野:Physics, Fluids & Plasmas

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