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Defect production by electron excitation in Cu and Ag

銅と銀における、電子励起による欠陥生成

岩瀬 彰宏; 岩田 忠夫; 仁平 猛*

Iwase, Akihiro; Iwata, Tadao; Nihira, Takeshi*

イオン照射したCuとAgにおいて、格子欠陥が、弾性的相互作用だけではなく、電子励起によっても生成されることを見出した。電子励起による欠陥生成の断面積は、Cuの場合、電子的阻止能Seの1.7乗に、Agの場合、Seの1.5乗に比例する。これら、2乗に近い依存性は、電子励起によって+にチャージした原子同士のクーロン相互作用が、原子のはじき出しの原因になっていることを示唆するものである。

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分野:Physics, Multidisciplinary

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