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Nitride formation at metal surfaces by Ar$$^{+}$$ ion bombardment in nitrogen atmosphere

アルゴンイオン衝撃による金属表面の窒化

馬場 祐治  ; 佐々木 貞吉

Baba, Yuji; Sasaki, Teikichi

1$$times$$10$$^{-3}$$Paの窒素ふん囲気下で各種金属にAr$$^{+}$$イオン照射を行い、表面の生物及び反応機構をSIMSXPSにより解析した。金属チタンをターゲットとした場合、SIMSにおけるTiN$$^{+}$$/Ti$$^{+}$$比は、窒素導入とともに増大し、標準試料TiN$$_{1.0}$$の約94%で飽和する。この経時変化曲線を解析することにより、Ar$$^{+}$$イオン1個当り約20個のTiNが表面に生成することがわかった。また、XPSにより求めたN/Me比(Me金属)の飽和値は、金属窒化物の生成自由エネルギーが低いほど大きい。この事実から、表面の窒化反応は、照射によって励起された局所的高温領域における化学反応によって起こることが明らかとなった。

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