A New system for in-situ observation of dynamic process of structural and chemical changes during dual ion irradiation in a 400kV electron microscope

400kV電顕内二重イオン照射損傷その場観察装置

古野茂実; 北條喜一; 大津仁; 出井数彦*; 佐々木貞吉; 塚本哲生*; 畑喬雄*

Furuno, Shigemi; Hojo, Kiichi; not registered; not registered; Sasaki, Teikichi; not registered; not registered

核融合炉材料の照射損傷をシミュレートする目的で、二重イオンビーム照射中の材料の損傷を連続的に観察、解析する装置を開発した。本装置は最大40keVのHからArまでのガスイオンを照射できる二組のイオン装置を400kVの電顕に付設したものである。照射中の構造変化はTVカメラによってVTRに連続的に記録され、同時分析はX線エネルギー分光器および電子エネルギー損失分光器によって行われる。この会議では、装置の仕様およびAlおよびSiCへの照射応用例を報告する。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Electron Microscopy 1990,Vol. 4
巻	:
号	:
ページ数	:	p.538 - 539
発行年月	:	1990/00
発表会議名	:	12th Int. Congress for Electron Microscopy
開催年月	:	1990/08
開催都市	:	America
開催国	:
キーワード	:	二重イオン照射; その場観察; EELS分析; 電子顕微鏡

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登録番号 : B19900046
抄録集掲載番号 : 190451
論文投稿番号 : 10360

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