ion source奥村 義和; 花田 磨砂也; 井上 多加志; 小島 啓明; 松田 恭博*; 渡邊 和弘
Okumura, Yoshikazu; Hanada, Masaya; Inoue, Takashi; Kojima, Hiroaki; not registered; Watanabe, Kazuhiro
体積生成型負イオン源の水素負イオン生成率は、ごく少量のセシウム蒸気を注入することによって大幅に高められる。この効果を、大型のマルチカスププラズマ源を持つイオン源を用いて詳細に調べた。その結果、この効果はプラズマ電極面上における負イオンの表面生成が主たる原因であることがわかった。
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使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | Proc. of the 13th Symp. on Ion Sources and Ion-Assisted Technology,I |
巻 |
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号 |
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ページ数 |
: | p.149 - 152 |
発行年月 |
: | 1990/06 |
発表会議名 |
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開催年月 |
: | 1990/06 |
開催都市 |
: | 東京 |
開催国 |
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キーワード |
: | Negative Ion Source; Volume Production; Multicusp Source; Cesium; Surface Production; Neutral Beam Injector |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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Altmetrics |
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