C at FCACまでのドップラー効果測定岡嶋 成晃 
; 大井川 宏之 ; 向山 武彦; 早野 睦彦*; 笠原 芳幸*; 工藤 文夫*
Okajima, Shigeaki; Oigawa, Hiroyuki; Mukaiyama, Takehiko; not registered; Kasahara, Y.*; not registered
高温領域でのドップラー効果の予測精度向上のため、2000Cまで測定可能な実験装置を開発し、FCAにおいて実験を行った。測定方法は、UO
サンプルを1500Cまで加熱するサンプル加熱・反応度変化測定法とUO箔を2000Cまでレーザーで加熱する箔加熱・反応率測定法の2つを組せた。
Uと実験装置の高温構造材(W)との共鳴の干渉効果を評価する超微細群セル計算コードを作成し、干渉効果が小さいこと確認した。計算値と実験値を比較すると、サンプル加熱法ではC/Eが0.8であり、箔加熱法では両者は良い一致を示した。
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使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
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巻 |
: | 66 |
号 |
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ページ数 |
: | p.523 - 524 |
発行年月 |
: | 1992/11 |
発表会議名 |
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開催年月 |
: | 1992/11 |
開催都市 |
: | America |
開催国 |
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キーワード |
: | Doppler Effect; Sample Reactivity Measurement; Foil Activation Measurement; |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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Altmetrics |
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