Makuuchi, Keizo; Yoshii, Fumio; J.Gunewardena*
300keV低エネルギー電子線による天然ゴムラテックスの放射線加硫のため、かき混ぜ装置の付いた照射容器を製作した。容器の直径は20cm、深さは17cmであった。容器上部に冷却槽の付いたビーム窓を固定した。窓の寸法は、10
10cmであった。かき混ぜ羽根は容器上部から斜めに装入した。回転速度は可変で、最大は280rpmであった。容器内に3.2lのラテックスを入れ、かき混ぜ速度やビーム電流を変化させて照射実験を行った。300keVの電子線のラテックス内透過は0.2mm程度であるが、照射中に適切に撹拌すると、本法のようなバッチ式照射でも、放射線加硫できることがわかった。しかし、撹拌中に泡が発生すると、放射線エネルギーが泡に吸収され、泡がパンケーキ状に同化することがあり、泡の発生抑制が重要であることがわかった。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 46 |
号 |
: | 4-6 |
ページ数 |
: | p.979 - 982 |
発行年月 |
: | 1995/00 |
発表会議名 |
: | 9th International Meeting on Radiation Processing (IMRP 1994) |
開催年月 |
: | 1994/09 |
開催都市 |
: | |
開催国 |
: | Turkey |
キーワード |
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論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：82.24 分野：Chemistry, Physical |
Altmetrics |
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