Surface photochemical reaction in adsorbed molecules induced by synchrotron soft X-ray

放射光軟X線により誘起される吸着分子の表面光化学反応

Baba, Yuji; Yoshii, Kenji; Yamamoto, Hiroyuki; Sasaki, Teikichi; W.Wurth*

放射光軟X線を固体表面に吸着した分子の選択的光化学反応に用いる有効性を、筆者らの実験結果に基づき概説した。可視光や紫外線に比べ軟X線を用いる利点は、内殻電子励起の「元素選択性」と「結合サイト選択性」にある。前者はSiCl $_{4}$ 、PCl $_{3}$ 、S $_{2}$ Cl等異なる2種類の元素から成る分子の吸着系からの正イオンの脱離において見出された。後者は、(CH $_{3}$ S) $_{2}$ 分子吸着系のS $_{1s}$ 共鳴励起によるS $^{+}$ 及びCH $_{3+}$ イオンの脱離において見出された。オージェ崩壊過程との比較により、これらの選択的光化学反応は、内殻軌道から反結合性 $^{ast}$ 軌道へ励起された電子(スペクテータ電子)の効果によるものであると結論した。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Material Chemistry 96: Proc. of Int. Symp. on Material Chemistry in Nuclear Environment
巻	:	0
号	:
ページ数	:	p.391 - 399
発行年月	:	1996/00
発表会議名	:	Int. Symp. on Material Chemistry in Nuclear Environment
開催年月	:	1996/03
開催都市	:	つくば
開催国	:
キーワード	:	Soft X-ray; Surface Photo Chemistry; Adsorbed Molecule; Auger Electron Spectroscopy; Synchrotron Radiation

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登録番号 : B19951737
抄録集掲載番号 : 240699
論文投稿番号 : 14132

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