-Al
O
implanted with vanadium ions-AlOの損傷成長と回復過程の比較解析Naramoto, Hiroshi; Aoki, Yasushi; Yamamoto, Shunya; Abe, Hiroaki
原研に設置したデュアルビーム解析システムの研究成果を中心に発表する。典型的な照射条件として、室温及び低温(36K、100K)での欠陥形成過程と、その後の熱処理過程での欠陥回復と注入元素の振舞をイオンビーム解析法により詳細に調べた。主な成果は以下の通りである。1)室温及び低温での照射効果の見かけ上の差異は統一的に記述できる。低温では、欠陥生成率が高い深度から非晶質化がはじまる。高温では、これら欠陥の動的回復のため欠陥は蓄積されず、注入元素が存在するより深い位置での注入元素と欠陥の複合体により結晶格子の乱れが存在するが、注入量にも限度があるため非晶質化しない。2)回復過程については、室温での照射では結晶性は保持され、熱処理によって複合参加物を形成する。一方低温照射では、非晶質状態からの異種物質相の核形成が主となる。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 127-128 |
号 |
: | |
ページ数 |
: | p.599 - 602 |
発行年月 |
: | 1997/00 |
発表会議名 |
: | |
開催年月 |
: | 1996/09 |
開催都市 |
: | America |
開催国 |
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キーワード |
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論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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- Accesses |
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InCites™ |
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パーセンタイル：67.93 分野：Instruments & Instrumentation |
Altmetrics |
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