キンク・バルーニング安定性に対する電流分布の影響

Effects of current profiles on the kink-ballooning stability

Ozeki, Takahisa; Azumi, Masafumi; Ishida, Shinichi; Koide, Yoshihiko; Tokuda, Shinji

キンク・バルーニング安定性に対する電流分布の影響を線形理想MHD安定性解析コードERATO-Jを用いて数値的に解析した。ここでは、円形断面でピークした圧力分布を持つ高 $_{p}$ プラズマの安定性を、次の3つの電流分布に対して検討した。すなわち、パラボリック、フラット、及びホローな電流分布である。低ベータプラズマ( $_{p}$ 0.5)においては、電流分布の違いによる不安定成長率や不安定領域への影響は小さい。一方、高ベータプラズマ( $_{p}$ 0.5)になると、ホローな電流分布では、成長率が増大して不安定領域が広がり、q $_{o}$ 2においても不安定となる。JT-60高 $_{p}$ 実験では、速い時定数(~100s)を持った $_{p}$ 崩壊が、m=3のモードと共に観測された。実験で得られた平衡を再構成し、キンク・バルーニングモードの安定性を解析した結果、 $_{p}$ 限界は、 $_{p}$ 崩壊のときの $_{p}$ の実測値とよい一致を示した。

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使用言語	:	Japanese
報告書番号	:	JAERI-M 90-180
ページ数	:	16 Pages
発行年月	:	1990/10
特許データ	:
PDF	:	JAERI-M-90-180.pdf:0.39MB
論文URL	:	https://doi.org/10.11484/jaeri-m-90-180
キーワード	:	Hollow; Current Profile; Kink-ballooning; High $_{p}$ ; MHD; Stability; JT-60; Tokamak
使用施設	:
広報プレスリリース	:
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登録番号 : M19900180
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