高温電子線照射容器の開発

Development of high temperature electron beam irradiation vessel

春山 保幸; 大島 明博*; 池田 重利*; 須永 博美; 滝沢 春喜; 瀬口 忠男

Haruyama, Yasuyuki; not registered; Ikeda, Shigetoshi*; Sunaga, Hiromi; Takizawa, Haruki; Seguchi, Tadao

高分子等を高温で電子線照射する場合には、従来は試料支持台に熱媒体を流通させるか、直接電気ヒーターで加熱するかの方法がとられていた。しかし、その方法では熱伝導のための試料温度の均一性が得られないこと、また、電子線を照射すると試料温度が局所的に上昇して温度の制御ができなくなるなど、高温下での照射に著しい困難があった。本研究開発において、雰囲気に不活性ガスを用い、その対流によって照射物質の温度を制御する方法により、電子線を照射する容器を開発した。この容器を用いて、高分子のシートを200Cから400Cの範囲で制御でき、均一温度下で照射することが可能となった。

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