SR励起加工

SR-excited process

我が国における放射光を用いた微細加工の研究の現状をレヴューした。SR励起加工を大項目とし、その下に中項目としてSR励起表面改質,SR励起結晶成長,SR励起エッチングを設けた。中項目のSR励起表面改質の下に小項目としてSRガス励起表面改質とSR直接励起表面改質を設け、中項目のSR励起結晶成長の下に小項目としてSR励起原子層エピタキシーとSR励起化学的気相成長を設け、中項目のSR励起エッチングの下にSR直接励起エッチング,SRガス励起エッチングとSRアブレーションを設けてレヴューした。

The current status of microprocesses using synchrotron radiation in Japan was reviewed. The SR-excited process is followed by SR-excited surface modification, SR-excited crystal growth and SR-excited etching. The SR-excited surface modification is followed by SR-gas-excited surface modification and SR-direct-excited surface modification. The SR-excited crystal growth is followed by SR-excited atomic layer epitaxy and SR-excited chemical vapor deposition. THe SR-excited etching is followed by SR-direct-excited etching, SR-gas-excited etching and SR ablation.

使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	ナノテクノロジー大事典
巻	:
号	:
ページ数	:	p.340 - 351
発行年月	:	2003/12
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	Synchrotron Radiation; Microprocess; Surface Modification; Crystal Growth; Etching; Atomic Layer Epitaxy; Chemical Vapor Deposition; Ablation

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使用施設	:	SPring-8(大型放射光施設)
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登録番号 : A20030411
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