Precipitates of vanadium oxide formed by ion implantation and heat treatment, 2

イオン注入及び熱処理による酸化バナジウムの生成,2

Narumi, Kazumasa; Yamamoto, Shunya; Naramoto, Hiroshi

化学的に不活性なサファイア中に酸化バナジウム相を生成することを目的として、サファイアに酸素とバナジウムを注入し、熱処理の際の基板及び注入元素の挙動をラザフォード後方散乱法(RBS)で観察した。還元雰囲気中での800 $^{circ}C$ -1000 $^{circ}C$ の焼鈍に対してはバナジウムの量がほとんど変化しないのに対し、空気中に焼鈍した試料は800 $^{circ}C$ 以上の温度でバナジウムの量が減少した。これに伴い、RBSにおけるチャネリング条件とランダム条件の収量の比が大きく減少した。これらの結果より、焼鈍雰囲気(酸素の有無)によってサファイア中でのバナジウムの挙動の違い、すなわち生成する酸化バナジウム相が異なることを明らかにした。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	JAERI-Review 99-025, TIARA Annual Report 1998
巻	:
号	:
ページ数	:	p.155 - 157
発行年月	:	1999/10
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キーワード	:	イオン注入; 酸化バナジウム; サファイア; 熱処理; ラザフォード後方散乱法

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登録番号 : A19990342
抄録集掲載番号 : 47000150
論文投稿番号 : 20843

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