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放射線を照射したポリ(フッ化ビニリデン)の融解挙動

Melting behavior of irradiated polyvinylidene fluoride

諏訪 武; 瀬口 忠男; 幕内 恵三; 阿部 俊彦; 田村 直幸; 武久 正昭

not registered; Seguchi, Tadao; not registered; not registered; not registered; Takehisa, Masaaki

ポリフッ化ビニリデン(PVdF)は放射線照射することにより架橋する。我々は電子線、$$gamma$$線を用い空気中および真空中で照射した場合の融解挙動をDSCを用いて、比較検討した。空気中照射した場合には、$$gamma$$線と電子線による線量率の相違や酸素の作用が大きく影響する。その結果DSC曲線は複雑な挙動を示し、酸化切断および架橋のそれぞれ支配的に起る二つの領域が結晶内に存在することが認められた。真空中照射した場合には電子線と$$gamma$$線による相違はほとんど認められず、単純な挙動を示した。融解温度Tm,結晶化温度Tcは照射線量の増加と共に低下し、その度合は架橋度の高い程大きいことが認められた。DSC曲線から求めた未照射PVdF結晶の融解熱は、1530cal/gである。200MR照射すると単位重量当りの融解熱は約17%減少した。またX線から求めた結晶化度の減少は約7%であった。

no abstracts in English

使用言語

 :

Japanese

掲載資料名

 :

日本化学会誌

巻

 :

1973

号

 :

5

ページ数

 :

p.1046 - 1051

発行年月

 :

1973/05

発表会議名

 :

開催年月

 :

開催都市

 :

開催国

 :

キーワード

 :

ポリフッ化ビニリデン; 照射線照射; 融解挙動

特許データ

 :

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論文URL

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広報プレスリリース

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