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照射したポリ(フッ化ビニリデン)のESR

Electron spin resonance studies of poly (vinylidene fluoride)

瀬口 忠男; 幕内 恵三; 諏訪 武; 田村 直幸; 阿部 俊彦; 武久 正昭

Seguchi, Tadao; not registered; not registered; not registered; not registered; Takehisa, Masaaki

放射線照射によって、ポリ(フッ化ビニリデン)(PVdF)に捕捉されるラジカル種をESRで同定した。さらにこれらのラジカル種の安定性および酸素との反応をしらべ、PVdFの橋かけ、崩壊との関係について検討した。-196$$^{circ}$$Cで捕捉される全ラジカルのG値は3.3で主なラジカル種は-CH$$_{2}$$-CF-CH$$_{2}$$-,-CH$$_{2}$$-CF$$_{2}$$である。これらのラジカルは酸素と反応して過酸化ラジカルに転換する。酸素はPVdFの結晶内部にも拡散し、ラジカルと反応するために、空気中において低線量率で照射した場合には、生成されるラジカルは過酸化ラジカルになり、橋かけ反応はせず、崩壊のみになる。

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