Effect of additives on self-focusing of a pulsed electron beam in Ar, He and O $_{2}$

Ar、He、O $_{2}$ 中でのパルス電子線の自己集束に対する添加ガスの効果

パルス電子線が自己集束するための媒体気体の最適圧が10Torr以下と100Torr以上の二つあることを既に発表したが、今回はHe、Ar、O $_{2}$ 中に第二気体を添加し第二高圧領域(10~300Torr)で現象がどのようになるかを調べた。第二気体は単に二次電子の冷却効果だけでなく、第二気体と第一気体との間の反応(主に電荷移動)、第二気体への二次電子の付着反応、両者の反応のエネルギー依存性など、いくつかの興味ある反応がこの現象に関与していることを明らかにした。

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使用言語	:	English
掲載資料名	:	Radiation Physics and Chemistry
巻	:	10
号	:	1
ページ数	:	p.7 - 15
発行年月	:	1977/01
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キーワード	:	Self-focusing; Pulsed Electron Beam; Ar; He; O $_{2}$

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登録番号 : A19766146
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論文投稿番号 : 4686

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Effect of additives on self-focusing of a pulsed electron beam in Ar, He and O

Ar、He、O中でのパルス電子線の自己集束に対する添加ガスの効果

Effect of additives on self-focusing of a pulsed electron beam in Ar, He and O $_{2}$

Ar、He、O $_{2}$ 中でのパルス電子線の自己集束に対する添加ガスの効果