前野 勝樹; 山本 新; 平山 俊雄; 小川 宏明; 大塚 英男; 松田 俊明
not registered; not registered; not registered; not registered; not registered; not registered
スクレィプオフ層の電子温度と不純物ガスの分圧とに対する分光強度の依存性を調べることから、軽元素不純物の発生機構を明らかにする。軽元素不純物からの分光強度は電子温度に比例し、HH
,CO,CO
,HO等の分圧に依存しない。計算機シュミレーションによると、その分光強度は軽元素不純物の流入束に比例する。これらのことから係元素不純物の流入機構は物理スパッタリングと考えられる。壁材料側から軽元素不純物を低減するためには、物理スパッタリングの小さい低Z材を選ぶことが大切である。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
|---|---|---|
掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 25 |
号 |
: | 7 |
ページ数 |
: | p.L604 - L606 |
発行年月 |
: | 1986/00 |
キーワード |
: | トカマク; プラズマ; 軽元素不純物; スクレィプオフ層; 電子温度; 不純物ガスの分圧; 物理スパッタリング; 化学スパッタリング; プラズマ壁相互作用; 低Z材 |
論文URL |
: |
|
|---|---|---|
論文解説記事 |
: |
Access |
: |
- Accesses |
|---|---|---|
InCites™ |
: |
パーセンタイル：8.62 分野：Physics, Applied |
Altmetrics |
: |
[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.
