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高電子密度化におけるJFT-2プラズマの低周波振動

Low Frequency Fluctuations in High Dencity JFT-2 Plasma

前野 勝樹; 片桐 政樹; 鈴木 紀男; 藤沢 登

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本報告書は、高密度化におけるJFT-2プラズマの低周波振動を磁気プローブとX線半導体検出器とを用いて調べた結果を述べたものである。高速ガス注入による電子密度の増加の過程においてはm=1、n=1の内部振動は発生しない。ガス注入を中断するとm=1、n=1の内部振動あるいはm=0、n=0の内部スパイク振動が発生する。高密度化の限界は電圧のネガティブスパイクにある。ネガティブスパイクの直前においては、m=1、m=2の振動が成長し、これらの振動がネガティブスパイクをひきおこしている。

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