厚いクロム・ターゲットの電着法による製法

Preparation of Thick Chromium Targets by Electroplating

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著者らはクロムをターゲットとして,理研サイクロトロンによるHeおよび粒子(共に最高44MeVまで)の照射を行いFeの生成を調べたが,一般に加速器による核反応断面積の測定やRIの製造に用いられるターゲットは,衝撃粒子の飛程に対して充分に厚いいわゆるthick targetが要求されるにかかわらず,クロムの場合,スタックとして使用するのに適した厚さ(2050mg/cm)のクロム薄板をつくる方法がないことを知った。

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使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	日本原子力学会誌
巻	:	12
号	:	7
ページ数	:	p.382 - 385
発行年月	:	1970/00
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
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キーワード	:	クロム・ターゲット

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.3327/jaesj.12.382
研究データの公開先DOI	:
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広報プレスリリース	:
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Access	:	- Accesses
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登録番号 : A19709117
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 2544

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