薄いガス層の真空の熱抵抗とその利用

Thermal Resistance of thin Gas Gap Under Variablc Vacuum Pressure ; Its Characterietics and Applications

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発熱源から冷却体にいたる熟の流れの途中に設けた萍いガス層内のガフ圧力を,Torrの程度の低い真空の下で変化せしめて,そのガス眉の熟抵抗を変化させ,発熱源を含む媒体の温度を制御する新しい温度制御の方法を開発し,原子炉内での照射物質の温度制御に利用してよい結果を得た.この制御の手段は,このほかにも種々なる工業利用の面が期待される.

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使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	日本機械学会誌
巻	:	73
号	:	618
ページ数	:	p.937 - 945
発行年月	:	1970/00
発表会議名	:
開催年月	:
開催都市	:
開催国	:
キーワード	:	真空の熱抵抗

特許データ	:
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論文URL	:	http://ci.nii.ac.jp/naid/110002468582
研究データの公開先DOI	:
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広報プレスリリース	:
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Access	:	- Accesses
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登録番号 : A19709138
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 2565

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