Advanced data handling for plasma profile control in JT-60

JT-60におけるプラズマ分布量制御のための先進的なデータ処理

米川 出; 末岡 通治; 細山 博己*; 川俣 陽一; 鈴木 隆博; 栗原 研一

Yonekawa, Izuru; Sueoka, Michiharu; Hosoyama, Hiroki*; Kawamata, Yoichi; Suzuki, Takahiro; Kurihara, Kenichi

高ベータプラズマの不安定性を回避する手段としてプラズマ電流分布の実時間制御の導入が実施され始めている。実時間分布制御における全体の処理時間は、入力信号であるMSE計測,プラズマ位置,形状を算出するシステム及び分布制御計算機での演算処理時間とプラズマ制御系内のデータ通信を含めても十ミリ秒程度でなければならない。一方、位置(R,Z)と時間の関数となる分布量データは、データサイズが大きいことから、転送時間の短縮や保存容量の最小化を図ることが必要である。プラズマ規格化小半径(r)を導入して位置の次元を1つ減らし、(j(t),(t))の2次元時系列データとすることによりデータ量の縮小を図った。さらにの刻みを固定化することで、従来と同じ1次元時系列データとして取り扱うことが可能となり、放電条件設定等のマンマシンインターフェースを利用することができる。この報告では分布量制御における3次元時系列データの簡略取り扱い法についてその技術的な事項をハードウエア構成とともに述べることとする。

Recent years, plasma current profile (j-profile) control has been newly proposed to avoid instabilities in the high normalized-beta plasma. In particular, for the real-time profile feedback control, the control period should be roughly less than several tens of ms, including data communication among relating systems. In order to minimize data transfer time,the profile data being a function of time and position is required to decrease its data size for efficient data handling. A profile data,defined as 3-dimension time series data (q,R,Z,t), was reduced by introducing normalized minor radius rho in place of (R,Z). Data handling for profile control will be presented with their technical issues, together with computing hardware engineering.