Compatibility of lithium oxide single crystals with tungsten sputtered films; The Effect of passivation films

酸化リチウム単結晶とタングステンフィルムとの両立性; 保護膜の効果

那須 昭一*; 永田 晋二*; 吉井 樹一郎*; 高廣 克己*; 菊地 直人*; 草野 英二*; Moto, Shintaro*; 山口 貞衛*; 大橋 憲太郎*; 野田 健治; 四竈 樹男*

Nasu, Shoichi*; Nagata, Shinji*; Yoshii, Kiichiro*; Takahiro, Katsumi*; Kikuchi, Naoto*; Kusano, Eiji*; Moto, Shintaro*; Yamaguchi, Sadae*; Ohashi, Kentaro*; Noda, Kenji; Shikama, Tatsuo*

酸化リチウムは核融合炉のトリチウム増殖材料の候補材料である。表面をアルミニウム,シリコン又はチタンの保護膜で覆った酸化リチウム単結晶とその上につけたタングステン膜との化学的両立性をラザホード後方散乱法より調べた。保護膜のない酸化リチウムでは573Kで1分及び623-673Kで1分の加熱でタングステンとの化学反応が見られた。一方、保護膜をつけた酸化リチウムでは、すべての試料について、573Kにおける1分の加熱で少量のタングステンが保護膜や酸化リチウム中へ拡散することが見られたが、その後の623Kから723Kの加熱において顕著な拡散は見られなかった。このことから、アルミニウム,シリコン又はチタン保護膜は酸化リチウムをタングステンとの反応から保護するために有用であると考えられる。

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