not registered; Taniguchi, Naoki; Ishikawa, Hirohisa
既存の知見に基づき、銅の全面腐食過程をモデル化した。このモデルは、腐食反応に関与する化学種の拡散方程式を、混成電位モデルにより規定された銅/腐食媒体界面における境界条件のもとで解くものである。モデルの確証を目的として実験的検討も行った。溶液中における銅のアノード/カソード分極線、自然浸漬電位並びに腐食速度を測定した。この測定結果とモデル解析結果は良い一致を示した。
None
使用言語 |
: | English |
|---|---|---|
掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | |
号 |
: | |
ページ数 |
: | p.911 - 918 |
発行年月 |
: | 1999/00 |
発表会議名 |
: | |
開催年月 |
: | 1998/11 |
開催都市 |
: | Boston |
開催国 |
: | U.S.A. |
キーワード |
: | no keyword |
論文URL |
: |
|
|---|---|---|
論文解説記事 |
: |
Access |
: |
- Accesses |
|---|---|---|
Altmetrics |
: |
[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.
被引用回数：