Ratio of transverse diffusion coefficient to mobility of electrons in high-pressure xenon and xenon doped with hydrogen

高圧キセノンガスとキセノン水素混合ガス中での電子の横拡散係数と移動度の比に関する研究

小林 進悟*; 長谷部 信行*; 細島 岳大*; 石崎 健士*; 岩松 和弘*; 三村 光輝*; 宮地 孝*; 宮島 光弘*; Pushkin, K.*; 手塚 千幹*; 道家 忠義*; 小林 正規*; 柴村 英道*; 石塚 晃弘 

Kobayashi, Shingo*; Hasebe, Nobuyuki*; Hosojima, Takehiro*; Ishizaki, Takeshi*; Iwamatsu, Kazuhiro*; Mimura, Mitsuteru*; Miyachi, Takashi*; Miyajima, Mitsuhiro*; Pushkin, K.*; Tezuka, Chikara*; Doke, Tadayoshi*; Kobayashi, Masanori*; Shibamura, Eido*; Ishizuka, Akihiro

高圧のキセノンとキセノン水素混合ガス中での電子の特性エネルギーの測定を行い、その値を初めて取得した。測定結果から、特性エネルギーの非線形成分の密度効果は、1MPaまでは15%以下であることを断定できる。また、高圧キセノン中に水素を混合することで電子の特性エネルギーを減少させることができることがわかり、このことを利用すれば、キセノンガスを用いた放射線撮像装置の解像度劣化要因である電子の拡散を抑えることができる。

We have obtained the ratio of transverse diffusion coeffcient to mobility of electrons multiplied by the elementary charge, in Xe and Xe+H under electric fields at a higher pressure of 1 MPa in comparison with preceding experiments. The result shows that the density effect (non-linear effect) of the ratio in both of pure Xe and Xe+H is 15% below 1 MPa over the reduced electric field range from 0.08 to 0.610Vcm. We also found that the diffusion of an electron swarm is suppressed by adding trace of hydrogen to high-pressure xenon gas. Discussion is made of Xe+H gas to a new -ray camera. Trace of hydrogen to high-pressure xenon gas. Discussion is made of Xe+H gas to a new -ray camera.