JT-60Uにおける低中心粒子供給時の密度分布

Density profile with low central fuelling in JT-60U

竹永 秀信; 浦野 創; 田中 謙治*

Takenaga, Hidenobu; Urano, Hajime; Tanaka, Kenji*

JT-60UのELMy Hモード及び負磁気シアプラズマにおいて、中心粒子供給の密度分布への影響を調べた。粒子供給が少ない負イオン源中性粒子ビーム(N-NB)加熱と粒子供給がない電子サイクロトロン波(EC)加熱主体時の密度分布を、粒子供給がある正イオン源中性粒子ビーム(P-NB)加熱時と比較した。ELMy Hモードプラズマでは、規格化半径r/a=0.2と0.8での密度の比で密度ピーキング度を定義し、その実効的衝突周波数依存性を調べた。ここで、実効的衝突周波数は電子-イオン間衝突周波数と湾曲ドリフト周波数の比であり、イオン温度勾配モードや捕捉電子モード等の乱流揺動成長率の指標である。P-NB加熱時には、実効的衝突周波数が小さいほど、密度ピーキング度は増加した。N-NBとEC加熱主体時にもピークした密度分布が観測されており、ピーキング度はP-NB加熱時と同程度であった。一方、負磁気シアプラズマでは、プラズマ電流立ち上げ時の加熱をN-NBとEC加熱主体とした場合でも、イオン温度と密度に内部輸送障壁が形成された。立ち上げ時の加熱をP-NBとした場合と比較すると、粒子供給分布は異なるが密度分布はほぼ同じであった。これらの結果により、中心粒子補給の密度分布への影響は小さいことを明らかにした。

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