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TIARAイオン注入装置におけるイオン生成技術の開発

Ion generation method at TIARA ion implanter

山田 圭介; 齋藤 勇一; 水橋 清; 大越 清紀 ; 織茂 貴雄*; 大前 昭臣*; 山田 尚人*

Yamada, Keisuke; Saito, Yuichi; Mizuhashi, Kiyoshi; Okoshi, Kiyonori; Orimo, Takao*; Omae, Akiomi*; Yamada, Naoto*

TIARAイオン注入装置では、フリーマン型イオン源を用いてさまざまなイオンを生成し、数多くの実験にビームを提供している。また、利用者の多種多様な要求に応えるため、イオン生成技術の開発を進めている。フリーマン型イオン源でのイオン生成方式として一般的に用いられているガス方式及びオーブン方式では生成できるイオン種が限られるため、ディスク方式,フィラメント方式及びプラズマ方式を独自に開発し、合計43種類ものイオンを生成可能にした。本研究会では、これらのイオン生成技術と最近開発したSi及びGeイオンの生成における詳細な生成方法及び問題点について報告する。

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