研究炉でのシリコンドーピング(NTD)

Status of neutron transmutation doping method in research reactors

Yamashita, Kiyonobu; Isshiki, Masahiko*; Sagawa, Hisashi; Yamamoto, Kazuyoshi

近年、中性子核変換ドーピング(Neutron Transmutation Doping: NTD)法によって製造されるNTD-Siの需要が高まってきている。現在のNTD-Siの製造方法から増産のために取り組んでいる装置開発の状況について説明を行う。また、世界のNTD-Siの市場を状況を分析し、現在の世界の総供給能力を175トン/年と見積もった。しかし、ハイブリッド車への適用を考えると供給量が需要を下回ることが推測されることから、早急にNTD-Siの量産化と安定供給の体制を確保しなければならない。現在、200mm大口径シリコン照射への対応計画を持っている原子炉は、オーストラリアのOPAL,ドイツのFRM-II,ベルギーのBR-2,韓国のHANARO,中国のCARR、そして日本のJMTRが挙げられる。将来的な需要を考えると、これら多目的研究炉では対応できなくなるため、300mm 大口径シリコンの照射が行えるような技術開発を進めることが肝要である。

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使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	電気学会パワーデバイス高性能化・高機能化技術調査専門委員会
開催年月	:	2007/07
開催都市	:	東京
開催国	:	日本
キーワード	:	no keyword

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受委託・共同研究相手機関	:	新エネルギー・産業技術総合開発機構

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登録番号 : BB20071987
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