半導体への利用

Application to semiconductor device fabrication and evaluation

伊藤 久義

Ito, Hisayoshi

現在では私達の生活の隅々にまで浸透している半導体の分野では、加工や評価技術として放射線利用の重要性がいち早く認識され、イオン注入,リソグラフィ技術,中性子転換ドーピング技術,宇宙用半導体評価技術等の開発が精力的に行われ、実用化が進み、産業技術として広く普及している。本稿では、放射線による半導体の加工や評価について、最新の事例を挙げながら解説する。

Radiation application techniques like ion implantation, electron-beam lithography, neutron transmutation doping, etc., are recognized as key technology for fabricating sophisticated semiconductor devices. Ion beams, electron beams, neutron beams and -rays are also used for evaluating the durability and reliability of highly integrated semiconductor devices. In this document, the outlines of radiation applications in the fabrication and evaluation of semiconductor devices are described.