TIARAにおける新たなビーム技術開発

Development of new beam technologies at TIARA

田中 茂; 横田 渉; 神谷 富裕

Tanaka, Shigeru; Yokota, Wataru; Kamiya, Tomihiro

おもに2005年10月の原子力機構発足後にイオン照射研究施設(TIARA)において開発された新たなビーム技術を紹介する。第2章ではAVFサイクロトロンでフラットトップ加速技術を用いて世界で初めて成功した数百MeV級重イオンのマイクロビーム形成技術と高速自動照準シングルイオンヒット技術について解説し、第3章では静電加速器を用いたマイクロ・ナノビーム生成技術とその微細加工への応用、大気マイクロPIXE技術の開発とその応用、及びクラスターイオンビームの研究開発とその応用について解説する。

Beam technologies newly developed at TIARA after the establishment of JAEA in October, 2005 are reviewed. In chapter 2, the technology for micro beam formation of heavy ions at energies of a few hundreds of MeV from AVF cyclotron, using flat-top acceleration technique and the technology of fast automatic aiming single ion hitting system by heavy ions at energies of a few hundreds of MeV, are described. In chapter 3, the technologies for micro-nano beam formation of ions at energies of a several MeV from electro-static accelerators and their application to micro fabrication of materials are firstly described, the development of in-air micro PIXE technique and its application are secondly explained, and then research and development of cluster ion beams and their application are described in detail.