一般化された接続法による回転プラズマにおけるRWM分散関係

Dispersion relation of RWM in rotating plasmas by generalized matching theory

JT-60SAに代表される高性能(高ベータ・定常)トカマクにおいて、プラズマ回転によるRWM(Resistive Wall Mode:抵抗性壁モード)の安定化機構の解明は、最も重要な物理・工学的課題の一つである。本研究では、接続理論により、回転プラズマにおけるRWM解析を行い、RWM安定性における重要な物理量を明らかにした。プラズマ回転があると従来の漸近接続法は応用できないため、著者らは、有限幅の内部層を用いる一般化された接続法を提案した。一般化された接続法に基づき、内部層方程式の解析解を用いて、解析的なRWM分散関係の導出に成功した。得られた分散関係を用いて、回転及び回転シアの効果について解析を行った。本研究により、回転シアの効果もRWM安定性に大きく寄与することが明らかになった。

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使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	日本物理学会第66回年次大会
開催年月	:	2011/03
開催都市	:	新潟
開催国	:	日本
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