高強度陽電子マイクロビーム発生のための陽電子銃改良

Improvement of a positron gun suitable for intense microbeam production

Maekawa, Masaki; Kawasuso, Atsuo; Yabuuchi, Atsushi

大面積走査や高精度な欠陥構造測定といった、これまでの陽電子マイクロビームでは困難であった測定を行うため、ビーム強度増大を目的とした陽電子銃の改良を行った。従来の6倍の $^{22}$ NaCl線源を、陽電子マイクロビーム発生に適した独自開発の小型線源カプセルに密閉し線源を製作した。低速陽電子ビームを得るための減速材形状についても計算機シミュレーションを活用した最適化を行った。これらの改良の結果、ビーム強度は従来のおよそ10倍にまで増強された。一方、ビーム径は10mと、従来とほぼ同様のままであった。

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使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	第6回高崎量子応用研究シンポジウム
開催年月	:	2011/10
開催都市	:	高崎
開催国	:	日本
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使用施設	:	TIARA(イオン照射研究施設)
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登録番号 : BB20111468
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