Development of a beam profile monitor using a negative ion probe beam for high intensity positive ion beams

負イオンプローブビームを用いたビームプロファイルモニターの開発

神藤 勝啓   ; 和田 元*; 西田 睦聡*; 木崎 雅志*; 津守 克嘉*; 西浦 正樹*; 金子 修*; 笹尾 眞實子*

Shinto, Katsuhiro; Wada, Motoi*; Nishida, Tomoaki*; Kisaki, Masashi*; Tsumori, Katsuyoshi*; Nishiura, Masaki*; Kaneko, Osamu*; Sasao, Mamiko*

大出力正イオンビームのビームプロファイルを診断するための新しい方式として、負イオンビームプローブシステムを提案してきた。核融合科学研究所のNBIテストスタンドにおいて行われている負イオンビームプローブシステムの原理検証実験の現状について報告する。引き出されるビームの形状が長方形の水素負イオン源がテストスタンドに設置されており、イオン源より引き出された水素負イオンビームの前電流量を測定した。3kVの引き出し電圧で10マイクロアンペアの水素負イオンビームを引き出すことができた。

We have proposed a negative ion beam probe system as a new scheme to diagnose beam profiles of high power positive ion beams. We show the present status of the proof-of-principle experiment for the negative ion beam probe system performed at NIFS NBI test stand. A negative hydrogen ion source which produces a rectangular shape beam was installed at the diagnostic chamber in the NBI test stand and the total current of H beam extracted from the ion source was measured. We obtained the total H beam current of 10 A with the beam energy of 3 kV.