大面積イオンビームの2次元強度分布測定のためのガフクロミックフィルムの校正

Calibration of gafchromic dosimetry films for large-area ion-beam distribution measurement

石坂 知久; 今井 浩二*; 百合 庸介; 湯山 貴裕; 石堀 郁夫; 奥村 進

Ishizaka, Tomohisa; Imai, Koji*; Yuri, Yosuke; Yuyama, Takahiro; Ishibori, Ikuo; Okumura, Susumu

TIARAサイクロトロンでは、多重極電磁石を用いた大面積均一ビーム形成照射技術の開発を進めている。形成されたビームの均一度や面積の評価にラジオクロミックフィルム線量計の一種であるガフクロミックフィルム(米国ISP社製)を用いた2次元相対強度分布計測を利用するため、イオンビーム照射によるフィルムの着色応答を調べた。ガフクロミックフィルムは、X線等を用いた線量分布評価に利用されているが、高解像度で大面積を評価でき取り扱いも容易である等の特長を有することから、イオンビームの強度分布の評価に利用可能と考えた。照射したフィルム(HD810, EBT2)をイメージスキャナで読み取りTIFF画像(16ビットRGB)に変換、RGB各成分に対応する吸光度を求めることでフルエンス応答曲線を作成した。3種類(10MeV H, 520MeV Ar、及び490MeV Xe)のビームに対する応答を調べた。520MeVのArビームをHD810フィルムへ照射した場合、B成分において310個/cmまでのおよそ2桁のレンジのフルエンス範囲に対して吸光度が線形に増加することがわかった。

no abstracts in English