線や電子線照射により食品中に誘導されるラジカルの保存中の減衰

Decay process of radicals induced in -ray or electron beam irradiated foods during storage

貝森 良彦*; 岸田 敬吾*; 川村 翔栄*; 中村 秀夫*; 菊地 正博; 鵜飼 光子*; 下山 雄平; 小林 泰彦

Kaimori, Yoshihiko*; Kishida, Keigo*; Kawamura, Shoei*; Nakamura, Hideo*; Kikuchi, Masahiro; Ukai, Mitsuko*; Shimoyama, Yuhei; Kobayashi, Yasuhiko

照射食品のESR検知法では、照射後数日以上経過した比較的安定なラジカルを計測している。本研究では、線又は電子線照射された乾燥食品のESR信号強度の減衰過程を反応速度論的に解析した。照射により生成したラジカルが消滅していく反応は二次反応であると考えられるので、簡単のため同種分子間で起こるとし、さらに照射により生成したラジカルが異なる反応速を持つ2種類であると仮定して計算を行った。その結果、反応速度論の理論式で表されるグラフは実験結果とよく一致した。電子線照射も線と同様のラジカル減衰挙動であった。本研究により、有機フリーラジカル由来の信号について照射直後からのラジカル減衰挙動が明らかにされた。反応速度論に基づいて解析した結果、早い速度で消滅するラジカルと、遅い速度で消滅するラジカルの少なくとも2種類以上のラジカルの存在が示唆された。通常、照射食品検知法においては照射後数日以上経過した試料を用いているため、照射直後の急激な減衰挙動の影響は考えられない。

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