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単一加速器によるデュアルビーム照射システムの開発

Development of one-accelerator-dual-beam system

松田 誠; 遊津 拓洋; 左高 正雄; 岩瀬 彰宏*

Matsuda, Makoto; Asozu, Takuhiro; Sataka, Masao; Iwase, Akihiro*

2種類のイオンビームを1台の静電加速器で同時に加速し、両ビームを標的の同一箇所に照射することのできるデュアルビームシステムを開発した。東海タンデム加速器は、高電圧端子内にECRイオン源を搭載したことで、質量電荷比($$q/A$$)の等しいイオンを同時に生成し加速することが可能である。$$^{132}$$Xe$$^{11+}$$イオンと$$^{12}$$C$$^{+}$$イオンを用いて加速試験を行った結果、$$q/A$$のわずかな差により、照射位置で2mmほどビームが分離することが判明した。この分離を解消するために、ビームスキャナーを用いて両ビームが均一に混ざる部分を標的に照射するシステムを開発した。このデュアルビームシステムを用いて、165MeVの$$^{132}$$Xe$$^{11+}$$イオンと15MeVの$$^{12}$$C$$^{+}$$イオンとを同時照射することで、XeイオンによるBi-Al$$_{2}$$O$$_{3}$$標的の重イオン照射効果を、Cイオンをプローブにしたラザフォード後方散乱分析法によりリアルタイムに測定することに成功した。

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