Development of high-energy, phase-controlled picosecond Yb:YLF CPA laser for adaptive pulse shaping on few-cycle OPCPA

数サイクルOPCPAにおける任意パルス位相制御のための高エネルギー位相制御ピコ秒Yb:YLF CPAレーザー装置の開発

赤羽 温; 小川 奏; 山川 考一

Akahane, Yutaka; Ogawa, Kanade; Yamakawa, Koichi

光パラメトリックチャープパルス増幅(OPCPA)による高強度数サイクルレーザーシステムのポンプ光源 として低温冷却Yb:YLFチャープパルス増幅レーザーを開発している。開発ではこれまでに再生増幅器モードサイズの拡大、自己収束効果の抑制により再生増幅器のみの増幅で107mJの高エネルギー出力を達成した。出力光パルスはシード光のチャープレートを増加させることによりペデスタル等の時間波形歪み無しに2.2psまでパルス 圧縮が可能であり、100Hzまでの高繰り返し動作が可能である。現在OPCPA時のアイドラー光パルスの非直接的高次分散補償のため出力レーザー光パルスの任意位相制御に着手しており、パルス伸張・圧縮に分散媒質のみを用いた数サイクル高強度レーザーシステムが実現可能になる。

Cryogenically-cooled Yb:YLF chirped-pulse regenerative amplifier has been developed for pumping OPCPA. 107 mJ pulses were obtained and compressed down to 2.2 ps without pedestals. Adaptive phase control is newly implemented for precise idler phase compensation.