62.5-250keV/u H $_{2}$ $^{+}$ とC $_{2}$ $^{+}$ イオン照射による非晶質炭素薄膜からの二次電子放出に対する近接効果

Vicinage effect on secondary-electron emissions from amorphous carbon foils bombarded with 62.5-250-keV/u H $_{2}$ $^{+}$ and C $_{2}$ $^{+}$ ions

Narumi, Kazumasa; Chiba, Atsuya; Yamada, Keisuke; Matoba, Shiro; Saito, Yuichi

高速領域(ボーア速度以上)のクラスターイオンが固体と衝突する際に誘起される二次電子放出には、近接効果と呼ばれる未解明の物理過程がある。この近接効果の起源を解明するために、非晶質炭素薄膜に2原子分子イオンを照射し、薄膜の前方に放出される二次電子収量の膜厚依存性を測定した。得られた膜厚依存性から、膜中で解離したイオン間の距離に対して近接効果がどのように変化するのかを求めた。その結果、二次電子放出に対する近接効果には、入射イオンによる励起電子の生成過程に由来するものとその励起電子の固体表面までの輸送程に由来するものがあること、さらにどちらが支配的であるかは、入射クラスターイオンが固体中で解離した後の解離イオン間の距離に依存することを明らかにした。

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使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	第8回高崎量子応用研究シンポジウム
開催年月	:	2013/10
開催都市	:	高崎
開催国	:	日本
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使用施設	:	TIARA(イオン照射研究施設)
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62.5-250keV/u HとCイオン照射による非晶質炭素薄膜からの二次電子放出に対する近接効果

Vicinage effect on secondary-electron emissions from amorphous carbon foils bombarded with 62.5-250-keV/u H and C ions

62.5-250keV/u H $_{2}$ $^{+}$ とC $_{2}$ $^{+}$ イオン照射による非晶質炭素薄膜からの二次電子放出に対する近接効果

Vicinage effect on secondary-electron emissions from amorphous carbon foils bombarded with 62.5-250-keV/u H $_{2}$ $^{+}$ and C $_{2}$ $^{+}$ ions