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照射穀類粉に誘導されるラジカルのESRによる解析

Analysis of radicals induced in irradiated cereal flour using ESR

川村 翔栄*; 岸田 敬吾*; 菊地 正博; 小林 泰彦; 鵜飼 光子*

Kawamura, Shoei*; Kishida, Keigo*; Kikuchi, Masahiro; Kobayashi, Yasuhiko; Ukai, Mitsuko*

ESRを用いて、$$gamma$$線及び電子線を照射した穀類粉(市販の小麦粉と米粉)を計測し、照射誘導ラジカルの飽和挙動およびラジカル減衰過程について解析した。$$g$$=2.0の位置に幅広のsinglet信号を観測した。この信号はsinglet信号とtriplet信号からなり、singlet信号は有機フリーラジカル由来の信号、triplet信号は$$^{14}$$N由来の信号であると推察された。$$gamma$$線または電子線照射処理された小麦や米の穀類粉のESRスペクトルには違いはなかった。照射により誘導されたESR信号強度は吸収線量の増加に伴い増加する傾向を示した。緩和時間は照射処理後、時間経過に伴い変化し、T$$_{1}$$は減少し、T$$_{2}$$は増加した。本研究では緩和時間はESR信号の飽和挙動から得られるパラメータを用いてLund法で算出したが、今後は、pulsed ESRで直接測定することが必要である。

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