Uniform Si nano-dot fabrication using reconstructed structure of Si(110)

Si(110)上再構成構造を利用した規定された形状のSiナノドットの作製

Yano, Masahiro; Uozumi, Yuki*; Yasuda, Satoshi; Asaoka, Hidehito

We have observed oxide decomposition process on Si(110). We have succeeded to observe metastable area and state by means of scanning tunneling microscope (STM) and X-ray photoemission spectroscopy (XPS), respectively.

使用言語	:	English
掲載資料名	:	Japanese Journal of Applied Physics
巻	:	57
号	:	6S1
ページ数	:	p.06HD04_1 - 06HD04_4
発行年月	:	2018/06
発表会議名	:	30th International Microprocesses and Nanotechnology Conference (MNC 2017)
開催年月	:	2017/11
開催都市	:	Jeju
開催国	:	Korea
キーワード	:	Si(110); Metastable States; Nanostructures

特許データ	:
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論文URL	:	https://doi.org/10.7567/JJAP.57.06HD04
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Access	:	- Accesses
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InCites™	:	パーセンタイル：19.87 分野：Physics, Applied
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登録番号 : BB20171265
抄録集掲載番号 : 48001049
論文投稿番号 : 23306

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