Siマイクロ・ナノロールを含む陽極酸化膜の構造評価

Surface structure of Anodic Oxide Layer with Si Micro-Nano Rolls

新井 太貴*; Qiao, Y.*; 鈴木 俊明*; 吉越 章隆 ; 丹羽 雅昭*; 本橋 光也*

Arai, Taiki*; Qiao, Y.*; Suzuki, Toshiaki*; Yoshigoe, Akitaka; Niwa, Masaaki*; Motohashi, Mitsuya*

本研究では、p型Si基板上の酸化シリコン層を陽極酸化した後の表面形態と陽極酸化時間の関係を明らかにした。陽極酸化に極めて希薄なHF溶液を用いることで、ユニークなメソ材料(Siロール)が形成される。陽極酸化中の電極間抵抗は、最初、陽極酸化時間の増加とともに増加し、その後、一定値になった。しばらくすると、再び徐々に増加した。この抵抗値は、Siロールの形成とその数を制御するための重要なパラメータと考えられる。

In this study, it was found that the relationship between anodisation time and surface morphology after anodic oxidation of silicon oxide layers on p-type Si substrates. The unique meso-materials (Si rolls) are formed by using extremely diluted HF solution for anodization. The resistance between the electrodes during anodization initially increased with increasing anodization time and then becomes constant value. After some time, it gradually increased again. It seems to consider an important parameter to control the formation of Si rolls and those numbers.