超マイクロイオンビーム形成技術の開発,2

Development of the ultra-fine ion microbeam apparatus, 2

石井 保行; 磯矢 彰*; 荒川 和夫; 田中 隆一*

Ishii, Yasuyuki; Isoya, Akira*; Arakawa, Kazuo; Tanaka, Ryuichi*

ビームエネルギー100keV、径0.1m級のHによるマイクロビームの形成を目指した、超マイクロビーム形成装置の研究開発を行ってきた。本装置の開発状況についてこれまでに本研究会においてビーム形成概念、イオン源の性能及びビーム径測定系について発表してきた。今回の発表では超マイクロビーム装置に対して行った種々の改良点のうち、ビーム径測定系と、0.5m程度まで集束できたビーム径の測定結果について発表する。また、このビームよりさらに小さなビーム径を安定に形成できない問題に加えて、遅い動きではあるが、ビーム移動の問題がある。この対策として、レンズ系へのビームの入射角度を小さく固定する電極系を設置したが、有効な対策にならなかった。この結果を踏まえて上記問題点の現在の解釈と今後の対策についても示す。

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