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Development of a sub-micron ion beam system in the keV range

keVレンジにおけるサブミクロンイオンビームの開発

石井 保行; 磯矢 彰*; 荒川 和夫; 小嶋 拓治; 田中 隆一*

Ishii, Yasuyuki; Isoya, Akira*; Arakawa, Kazuo; Kojima, Takuji; Tanaka, Ryuichi*

デュオプラズマトロンタイプのイオン源と加速電極の単孔レンズ及び、ビーム加速機能を併せ持つ加速レンズを使用して超マイクロイオンビーム形成装置を設計及び、製作した。この装置を用いて予備実験を行い、ビームエネルギー30keV程度で、径0.43$$mu$$m程度のマイクロビームを形成することができた。しかし、この径は軌道計算で得られた値より大きく、しかも集束点の移動が観測された。この問題を解決するため、2つの実験を行った。レンズ系に入射するビームの発散角を調整することによりビームエネルギー30keV程度で、径0.28$$mu$$m程度のマイクロビームを得ることができた。集束点の移動をわずかに低減できた。この結果から、0.1$$mu$$m級のビーム径で、安定なビームの形成に向けた研究の方向性を得ることができた。

no abstracts in English

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分野:Instruments & Instrumentation

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