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モリブデン-99の製造用ターゲット材料及びその製造方法

藤田 善貴

末松 久幸*; 中山 忠親*; Do Thi Mai Dung*; 鈴木 達也*; Ngo Minh Chu*

【課題】水に分散させた中性子照射したターゲットに関し、フィルターで濾過可能で、溶液中に高濃度のMO-99を抽出する方法が求められていることに着目し、形状制御したターゲット材料を開発すること。 【解決手段】長径と短径が大きく異なる細長いMOO3ウイスカー材料をターゲットとし、中性子照射後水に分散させ、フィルターで溶液と分離してMO-99を高い濃度で溶液に抽出する。

Representative country of application

 :

日本

Application number

 :

2022-63746

Publication number

 :

2023-154459

Patent number

 :

Date of filing

 :

2022/04/07

Date of publication

 :

2023/10/20

Date of patent

 :

PCT application number

 :

PCT patent number

 :

EPC application number

 :

EPC patent number

 :

International patent classification

 :

G21G 1/08 (2006.01):G21G 4/08 (2006.01)

Relevant patent

 :

[1]特開2004-150977(P2004-150977A)「ジルコニウム系無機高分子を使用した選択的モリブデン吸着剤を利用する中性子照射天然モリブデン型テクネチウム99mジェネレータシステム及びその製造装置」、[2]特願2018-182149「放射性同位元素Mo-99の製造方法とターゲット材料」

Relevant other documents

 :

[1]Tachimori. S., Nakamura. H., Amano. H., J. Nucl. Sci. Technol. (Abingdon, U. K.), Vol.8, 1971, pp.295-301、[2]Iturbe. J.L., Int. J. Radiat. Appl. Instrum. Part. A, Vol.41, 1990, pp.693-695、[3]Ilyin. A.P., Korovin. S.A., Menshikov. L.I., Petrunin. V.F., Semenov. A.N., Chuvilin .D. Yu., Phys. Procedia, 72, 2015, pp.548-551.

Published unexamined patent application

 :

P53280A.pdf

Link for Patent Gazette

 :

Licensable Patent Information Database

 :

Press Release

 :

Article of JAEA R&D Review

 :

Access

From 2021.3.1

 :

- Accesses

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