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論文

Chemical repair activity of free radical scavenger edaravone; Reduction reactions with dGMP hydroxyl radical adducts and suppression of base lesions and AP sites on irradiated plasmid DNA

端 邦樹; 漆原 あゆみ*; 山下 真一*; Lin, M.*; 室屋 裕佐*; 鹿園 直哉; 横谷 明徳; Fu, H.*; 勝村 庸介*

Journal of Radiation Research, 56(1), p.59 - 66, 2015/01

AA2014-0383.pdf:0.93MB

 被引用回数:6 パーセンタイル:29.49(Biology)

Reactions of edaravone (3-methyl-1-phenyl-2-pyrazolin-5-one) toward deoxyguanosine monophosphate (dGMP) hydroxyl radical adducts were investigated by pulse radiolysis technique. Edaravone was found to reduce the dGMP hydroxyl radical adducts through electron transfer reactions. The rate constants of the reactions were higher than 4 $$times$$ 10$$^{8}$$ dm$$^{3}$$ mol$$^{-1}$$ s$$^{-1}$$ and similar to those of the reactions of ascorbic acid, which is a representative antioxidant. Yields of single-strand breaks, base lesions, and abasic sites produced in pUC18 plasmid DNA by $$gamma$$ ray irradiation in the presence of low concentrations of edaravone were also quantified, and the chemical repair activity of edaravone was estimated by a method recently developed by the authors. By comparing suppression efficiencies to the induction of each DNA lesion, it was found that base lesions and abasic sites were suppressed by the chemical repair activity of edaravone, although the suppression of single-strand breaks was not very effective. This phenomenon is attributed to the chemical repair activity of edaravone toward base lesions and abasic sites. However, the chemical repair activity of edaravone for base lesions was lower than that of ascorbic acid.

論文

Chemical repair of base lesions, AP sites, and strand breaks on plasmid DNA in dilute aqueous solution by ascorbic acid

端 邦樹; 漆原 あゆみ; 山下 真一; 鹿園 直哉; 横谷 明徳; 勝村 庸介*

Biochemical and Biophysical Research Communications, 434(2), p.341 - 345, 2013/05

 被引用回数:8 パーセンタイル:23.8(Biochemistry & Molecular Biology)

In order to clarify whether ascorbic acid, which is a major antioxidant in living systems, chemically repairs radiation damage to DNA. We quantified the yields of base lesions, AP sites and single strand breaks (SSBs) produced in plasmid DNA by $$gamma$$-irradiation in the presence of ascorbic acid with concentrations of 10-100 $$mu$$MM. By comparing the suppression efficiencies to the induction of each DNA lesion, it was found that ascorbic acid promotes the chemical repair of precursors of AP-sites and base lesions more effectively than those of single strand breaks. We estimated the efficiency of the chemical repair of each lesion using a kinetic model. Approximately 50-60% of base lesions and AP-sites were repaired by 10 $$mu$$M ascorbic acid, although strand breaks were largely unrepaired by ascorbic acid at low concentrations. The methods in this study will provide a route to understanding the mechanistic aspects of antioxidant activity in living systems.

論文

Chemical form of released tritium from solid breeder materials under the various purge gas conditions

金城 智弘*; 西川 正史*; 山下 直哉*; 小山 貴範*; 谷藤 隆昭*; 榎枝 幹男

Fusion Engineering and Design, 82(15-24), p.2147 - 2151, 2007/10

 被引用回数:22 パーセンタイル:80.6(Nuclear Science & Technology)

核融合炉ブランケットでは固体増殖材を用いてトリチウムを生産することが考えられている。本研究では、主要な固体増殖材(Li$$_{2}$$TiO$$_{3}$$, Li$$_{4}$$SiO$$_{4}$$, LiAlO$$_{2}$$, Li$$_{2}$$ZO$$_{3}$$など)からのトリチウムの放出挙動について、すべての関係する物質移動過程をモデル化して定式化し、速度定数等を実験的に決定し、数値解析方法を提案した。また、原子炉照射してトリチウムを生成した増殖材からのトリチウム放出挙動を、種々の条件で測定し、提案した解析方法で予測した結果と比較し、よく一致することを示した。さらに、ITERを用いた試験ブランケットの条件でトリチウム放出挙動の予測を行い、試験モジュール設計に重要な知見を与えた。

口頭

希薄プラスミドDNA水溶液への$$gamma$$線照射; 放射線誘起損傷の抗酸化剤エダラボンによる化学回復

端 邦樹; 漆原 あゆみ; 山下 真一; 鹿園 直哉; 横谷 明徳; 勝村 庸介*

no journal, , 

一般的に、抗酸化物質に期待される照射直後の防護メカニズムはラジカルを除去する化学的プロセスであり、これまでにOHラジカルの捕捉やdGMPラジカルに対する還元作用(化学回復)が報告されている。本研究では、放射線DNA損傷のエダラボンによる化学回復の存在を証明することを目的とした。直接効果が無視できるほどの希薄水溶液の系を考えた場合、エダラボンのOHラジカル捕捉が唯一の防護プロセスであるならば、OHラジカルにより生成する一本鎖切断(SSB)と塩基損傷の収率は同じ比率で抑制される。もし化学回復が起こると、SSBに対する塩基損傷収率の比率は、DNAの立体構造とエダラボンの可触性の兼ね合いから変化する可能性がある。そこで、エダラボン添加によるDNA上のSSBと塩基損傷の比を調べた。エダラボンを添加した10ng/$$mu$$lの希薄プラスミドDNA水溶液に対して$$gamma$$線照射した後に、塩基損傷を酵素処理によって検出し電気泳動により各損傷を定量した。抗酸化剤添加に伴う各損傷の生成パターンの変化から抗酸化剤による化学回復の有無について調べた。測定の結果、塩基脱離部位(APサイト)と呼ばれる損傷に対してエダラボンが選択的に化学回復するということが示唆された。

口頭

抗酸化物質エダラボンによるDNA損傷前駆体の化学回復

端 邦樹; 漆原 あゆみ; 山下 真一; 鹿園 直哉; 横谷 明徳; 室屋 裕佐*; 勝村 庸介*

no journal, , 

本研究は、抗酸化剤エダラボンの放射線防護効果の起源としてOHラジカル捕捉に加え、DNAラジカルに対する化学回復もあるのではないかと考え、エダラボンの化学回復作用の有無を調べた。まず電子線照射により生じたヌクレオチド(dGMP)ラジカルをエダラボンが還元することを、パルスラジオリシス法により示した。さらに実際のDNA分子に化学回復が機能するか否かを調べるため、プラスミドDNA溶液試料に対する$$gamma$$線照射を行った。照射により生じた鎖切断に加えAPサイト及び塩基損傷収率を、塩基除去修復酵素をプローブとして用いることで定量した。その結果、鎖切断に比べてAPサイトや塩基損傷がエダラボン添加により大きく抑制された。この結果は、これらのDNA損傷の前駆体であるDNAラジカルをエダラボンが化学回復することを示唆している。

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