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論文

Rate of production of water vapour in low-power,high-repetition-rate discharge cleaning

松崎 誼; 鈴木 紀男; 平山 俊雄

Japanese Journal of Applied Physics, 25(2), p.253 - 257, 1986/00

 被引用回数:12 パーセンタイル:54.36(Physics, Applied)

低いパワーで繰り返しの早い放電洗浄(テーラ型放電洗浄:TDC)において、ガス圧Pf,プラズマ電流Ip,繰り返し周期I/Tに対する水P$$_{H}$$$$_{2}$$$$_{O}$$の生成割合について実験した。P$$_{H}$$$$_{2}$$$$_{O}$$はPfの増大に伴い増えるが増え方はP$$_{H}$$$$_{2}$$$$_{O}$$$$alpha$$Pf$$^{0}$$$$^{.}$$$$^{6}$$で指数は1とならない。これはガス圧の上昇に伴い、電子温度Teが低下、H$$_{2}$$の解離が減少する為である。Ipについては5kA$$<$$Ip$$<$$10kAが最適であり、これはTe=5~10eVになる。Teがこれ以上になると生成されたH$$_{2}$$Oの解離が進むのでP$$_{H}$$$$_{2}$$$$_{O}$$は減少する。I/TについてはI/Tが増大すればP$$_{H}$$$$_{2}$$$$_{O}$$も増大する。更にP$$_{H}$$$$_{2}$$$$_{O}$$の時間変化については、P$$_{H}$$$$_{2}$$$$_{O}$$はTDCを開始すると直ちに、ベース圧より20倍程度増大し、その後徐々に減少する。それはP$$_{H}$$$$_{2}$$$$_{O}$$$$alpha$$t$$^{-}$$$$^{0}$$$$^{.}$$$$^{9}$$となる。以上の実験事実を水の粒子バランス方程式を使用して、論議・考察した。

論文

J$$times$$B gun pre-ionization equipment in JFT-2 tokamak

松崎 誼; 谷 孝志

Japanese Journal of Applied Physics, 23(7), p.941 - 942, 1984/00

 被引用回数:0 パーセンタイル:0.05(Physics, Applied)

トカマク装置にとって重要な予備電離装置としてJ$$times$$Bガン予備電離装置を製作しJFT-2トカマクで実験した。J$$times$$Bガンは電極とコンデンサ電源等から成る。このJ$$times$$Bガンの放電は1$$times$$10$$^{-}$$$$^{5}$$Torrから5$$times$$10$$^{-}$$$$^{4}$$Torr間のガス圧で起り波形は半値巾で1msecである。JFT-2トカマクに適用しブレークダウン電圧Vebとガス圧の関係を求めた。その結果J$$times$$Bガンを使用するとVebは15%から60%近く減少し、かつより低いガス圧迄トカマク放電が可能となり、更にVebがあるガス圧でトロイダル磁場Btに関係のない一定の電圧になるというトカマク放電の再現性に利している。次にVebとBtの関係を求めた結果3.5kGから10kG迄ほぼ同一のVebであるが、3.5kG以下ではVebが急激に上昇、10kG以上ではゆるやかに上昇する。後者の原因はBt$$times$$$$nabla$$Btで電子の損失が発生するためと推定される。

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