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口頭

Cu(410)表面における超音速エチレン分子ビームの反応性

牧野隆正*; 津田泰孝*; 吉田光; 吉越章隆; 岡田美智雄*

no journal, ,

金属表面における炭化水素分子の脱水素化反応は、グラフェン生成や様々な触媒反応の反応素過程として重要である。本研究では、超音速C $_{2}$ H $_{4}$ 分子線をCu(410)表面に照射しSPring-8の放射光を利用したX線光電子分光法により、C $_{2}$ H $_{4}$ 分子がどのように反応するか調べた。並進エネルギー約2eVのC $_{2}$ H $_{4}$ 分子では、脱水素化した化学種が表面に吸着することを示唆する結果を得た。