Cu(410)表面における超音速エチレン分子ビームの反応性

Surface reaction of supersonic CH on Cu(410)

牧野 隆正*; 津田 泰孝*; 吉田 光; 吉越 章隆 ; 岡田 美智雄*

Makino, Takamasa*; Tsuda, Yasutaka*; Yoshida, Hikaru; Yoshigoe, Akitaka; Okada, Michio*

金属表面における炭化水素分子の脱水素化反応は、グラフェン生成や様々な触媒反応の反応素過程として重要である。本研究では、超音速CH分子線をCu(410)表面に照射しSPring-8の放射光を利用したX線光電子分光法により、CH分子がどのように反応するか調べた。並進エネルギー約2eVのCH分子では、脱水素化した化学種が表面に吸着することを示唆する結果を得た。

The de-hydrogenation reaction of hydrocarbon molecules at metal surface is important as an elementary process of graphene generation and various catalytic reactions. In order to investigate CH reactions at Cu(410) surface, CH molecular beams and synchrotron radiation X-rays photoelectron spectroscopy was used. We found that the chemical species which became dehydrogenation adsorbs at the surface when CH molecule has kinetic energy of 2 eV.